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Handbook of Chemical Vapor Deposition, Second Edition


Handbook of Chemical Vapor DepositionAutor: Hugh Pierson
Kategorie: Mikroelektronik
Zielgruppe: Vollständiger, aktueller Überblick über den gesamten Prozess der chemischen Gasphasenabscheidung; geeignet für Ingenieure und Technologen in der Halbleiter-, Optoelektronik-, Optik-, Schneidwerkzeug- und Filterindustrie sowie der Herstellung feuerfester Fasern und anderer Industrien.

Inhalt (PDF)

Sprache: en
Copyright: 1999
Spezifikationen:
Seiten: 482
6 x 9, Hardcover
ISBN: 0-8155-1432-8

Inhalt:

Um die neuesten Fortschritte im Prozess der chemischen Gasphasenabscheidung (CVD, von engl. „Chemical Vapor Deposition“) zu verstehen, sollte man sich dieser neuen, zweiten Auflage widmen. Die CVD-Technologie wächst immer schneller, und die Anzahl und der Umfang ihrer Anwendungen sowie deren Einfluss auf den Markt sind beachtlich gewachsen. Der Markt wird mittlerweile auf das mindestens doppelte Ausmaß geschätzt als noch vor sieben Jahren – damals erschien die erste Auflage dieses Buches. Die zweite Auflage ist eine Aktualisierung mit einem beachtlich erweiterten und überarbeitetem Spektrum.

Plasma-Gasphasenabscheidung und metall-organische Gasphasenabscheidung sind zwei wichtige Faktoren in diesem schnellen Wachstum. Leser werden die neuesten Daten zu beiden Prozessen in diesem Band finden. Ebenso erklärt das Buch die wachsende Wichtigkeit von Gasphasenabscheidung in der Produktion von Halbleitern und zusammenhängenden Anwendungen.

Preise:

Listenpreis: 157,00 US$

Features:
  • Der praktische Ansatz dieses Handbuches hebt die Nutzung der Gasphasenabscheidung in der Industrie hervor, wie z.B. bei Halbleitern, Optoelektronik, Optik, Schneidewerkzeuge, feuerfesten Fasern, Filtern und vielen anderen.
  • Die Behandlung von Chemie und Entsorgungs-Methoden von neuen Materialien, die durch Gasphasenabscheidung produziert wurden, wurde in dieser Auflage sehr stark erweitert.
  • Ein besonderer Schwerpunkt liegt auf dem schnellen Bedeutungswachstum zweier wichtigerer Gasabscheidungsprozesse: Plasma-Gasphasenabscheidung und metall-organische Gasphasenabscheidung.
  • Die wachsende Verbreitung der Nutzung von Gasphasenabscheidung in der modernen Industrie wird betont und die Gründe dafür aufgezeigt, außerdem werden unterschiedliche Anwendungen, die in den letzten Jahren entwickelt wurden, vorgestellt.
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